第229章 新一代光刻机(第3/5页)
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最近几年，不断挑战物理学极限的半导体光刻机，大有挑战明珠之王的趋势。
航发是在极端高温高压下挑战材料和能量密度的极限。
而光刻机是在比头发丝还细千倍的地方挑战激光波长和量子隧穿的极限。
两者都有相似的地方，都有不可逾越的鸿沟，但只要资金到位，人才到位，一切困难都能克服。
趁着岛国半导体和光刻机行业发展的瓶颈和颓势，姜余准备一举弯道反超。
人工智能通过这两款光刻机的设计图纸，重新进行了技术改良和大范围的优化，形成了拥有自主知识产权的光刻机。
这台全新的光刻机，不能说是最先进的，但比起岛国的技术，优势还是非常明显的。
它采用了193nm的arf（氟化氩）准分子激光作为光源，波长193纳米，可以实现65nm到800nm的芯片工艺制程。
它可以实现20寸、12英寸、8英寸晶元投射制作。
除了支持硅晶圆之外，它还支持其他化合物半导体，例如氮化镓和碳化硅。
它的生产效率比起岛国的最先进的光刻机还提升了25%。
像这样的光刻机，聂教授也只花了半年时间，就做出了成品。
有现成的设计图纸，有高端的机械制造能力，要实现并不难。
至于那些光学镜头，阿飞趁着空闲的时间，给他们制造了1000多组，够他们用很久了。